《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志版面費怎么算?

來源:愛發(fā)表網(wǎng)整理 2025-05-19 11:04:13

《電子工業(yè)專用設(shè)備》的版面費計算方法如下:

1.按版面計算:具體版面計算方式可聯(lián)系雜志社或咨詢在線客服。如果文章超出定義范圍則需要多支付一版面的費用。

2.按字?jǐn)?shù)計算:有些期刊會根據(jù)論文的字?jǐn)?shù)來計算版面費,例如每千字收取一定費用。

3.額外費用:如果文章需要彩色印刷(如圖表、圖片),可能會額外收取費用。

4.期刊級別和收錄數(shù)據(jù)庫:期刊的級別和被不同數(shù)據(jù)庫收錄的情況也會影響版面費。例如,知網(wǎng)收錄的期刊版面費通常較高。

5.期刊政策與優(yōu)惠:部分期刊可能對特定群體(如學(xué)生、學(xué)者等)提供版面費優(yōu)惠。

6.開放獲取:開放獲取期刊通常按文章收取費用,費用較高,涵蓋同行評審、編輯、出版和在線傳播等成本。

《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志的版面費計算方式相對明確,主要依據(jù)文章所占據(jù)的版面數(shù)量進行收費。作者在投稿前,應(yīng)仔細核對文章字?jǐn)?shù),并根據(jù)期刊的收費標(biāo)準(zhǔn)合理預(yù)算版面費。

《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志創(chuàng)刊于1971年,是一本由中國電子科技集團公司主管、主辦的學(xué)術(shù)性期刊。該雜志為雙月刊,審稿周期為預(yù)計1個月內(nèi),國內(nèi)統(tǒng)一刊號為62-1077/TN,國際標(biāo)準(zhǔn)刊號為1004-4507。

《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志的主要欄目包括: 先進封裝技術(shù)與設(shè)備、半導(dǎo)體制造工藝與設(shè)備、電子專用設(shè)備研究、專用設(shè)備維護與保養(yǎng),該雜志注重學(xué)術(shù)性與實踐性結(jié)合,鼓勵創(chuàng)新性研究,尤其歡迎具有理論深度或?qū)嵶C價值的論文。其刊載文章多涉及電子政策分析、電子技術(shù)應(yīng)用等熱點議題,為電子工作者提供前沿的學(xué)術(shù)參考。

該雜志在學(xué)術(shù)界具有較高影響力,被知網(wǎng)收錄(中)、維普收錄(中)、萬方收錄(中)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏收錄,這意味著論文能夠被更廣泛的學(xué)術(shù)群體檢索和引用,有助于提升研究成果的傳播范圍和學(xué)術(shù)影響力。

根據(jù)最新數(shù)據(jù),其影響因子:0.19,表明該雜志在電子研究領(lǐng)域具有較高的學(xué)術(shù)認(rèn)可度。

《電子工業(yè)專用設(shè)備》雜志須知(審稿周期:預(yù)計1個月內(nèi))

Ⅰ、編號應(yīng)頂格書寫。有標(biāo)題時,在編號后空一字再寫標(biāo)題,另起一行寫具體內(nèi)容。無標(biāo)題時,編號后空一字寫具體內(nèi)容。

Ⅱ、第一作者必須注明出生年月、性別、籍貫、職稱、學(xué)歷、從事的研究方向或領(lǐng)域;通訊作者必須注明其職稱、學(xué)歷以及從事的研究方向或領(lǐng)域。

Ⅲ、文稿要求論述充分有力,研究方法嚴(yán)謹(jǐn)創(chuàng)新。

Ⅳ、參考文獻按出現(xiàn)的次序列在文末,并在文中對應(yīng)位置以右上角方括弧中的數(shù)字表示。詳細參考文獻格式,見往期雜志。

Ⅴ、摘要是以提供文獻內(nèi)容梗概為目的,不加評論和補充解釋,簡明、確切地記述文獻重要內(nèi)容的短文。

電子工業(yè)專用設(shè)備發(fā)文分析

主要發(fā)文學(xué)者分析

學(xué)者姓名 發(fā)文量 主要研究主題
童志義 43 光學(xué)光刻;集成電路;光刻;硅;CMP
鮮飛 42 表面貼裝技術(shù);SMT;貼片機;波峰焊;SMT生產(chǎn)
翁壽松 30 半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè);半導(dǎo)體;半導(dǎo)體設(shè)備;銅互連;應(yīng)變...
柳濱 21 CMP;化學(xué)機械拋光;化學(xué)機械平坦化;拋光液;...
陳大鵬 21 半導(dǎo)體器件;刻蝕;MEMS;溝道;焦平面陣列
顏景平 19 機器人;冗余度機器人;料器;球磨機;回轉(zhuǎn)誤差
周國安 18 CMP;化學(xué)機械平坦化;化學(xué)機械拋光;拋光液;...
葉甜春 17 X射線光刻;溝道;半導(dǎo)體器件;版圖;襯底
楊洪星 17 單晶片;鍺;拋光片;晶片;表面粗糙度
譚立杰 17 晶圓;直線電機;激光加工;伺服控制;ETHERCAT

主要發(fā)文機構(gòu)分析

機構(gòu)名稱 發(fā)文量 主要研究主題
中國電子科技集團公司... 646 半導(dǎo)體;光刻;晶圓;電機;拋光
中國電子科技集團公司... 229 真空;電池;低溫共燒陶瓷;太陽能...
中國電子科技集團公司... 168 電池;太陽能電池;太陽能;均勻性...
中國電子科技集團公司... 118 單晶;硅單晶;硅片;晶片;區(qū)熔
電子工業(yè)部 115 半導(dǎo)體;光刻;曝光機;切片;切片...
北京中電科電子裝備有... 92 晶圓;劃片;劃片機;鍵合;封裝
中華人民共和國工業(yè)和... 75 光刻;電路;電子專用設(shè)備;集成電...
中國電子科技集團公司 68 電路;集成電路;化學(xué)機械拋光;機...
中國電子科技集團第十... 66 光刻;刻蝕;激光;光刻機;投影光...
中國科學(xué)院 54 光刻;光刻機;電路;半導(dǎo)體;電子...

主要資助項目分析

涉及文獻 資助項目
39 國家自然科學(xué)基金
37 國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃
29 國家科技重大專項
7 國家重點基礎(chǔ)研究發(fā)展計劃
6 海南省自然科學(xué)基金
3 湖南省自然科學(xué)基金
3 國家火炬計劃
2 國防基礎(chǔ)科研計劃
2 電子信息產(chǎn)業(yè)發(fā)展基金
2 國際科技合作與交流專項項目

主要資助課題分析

涉及文獻 資助課題
9 國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃(2005AA404210)
8 國家科技重大專項(2009ZX02011-005A)
8 國家自然科學(xué)基金(60576053)
5 國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃(2009AA043103)
3 國家科技重大專項(2012ZX04001-022)
3 國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃(20094A043103)
3 國家高技術(shù)研究發(fā)展計劃(2002AA311243)
3 國家自然科學(xué)基金(50390064)
3 國家火炬計劃(2003EB041301)
2 國家科技重大專項(2009ZX02010-17)
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