《電子工業專用設備》雜志社地址：北京市朝陽區安貞西里26號浙江大廈913室。
雜志社郵編：100029。
《電子工業專用設備》雜志于1971年創刊，國際刊號：1004-4507，國內刊號：62-1077/TN，現如今被知網收錄(中)、維普收錄(中)、萬方收錄(中)、國家圖書館館藏、上海圖書館館藏等收錄，是一本電子類部級期刊，刊期為雙月刊，影響因子為0.19。
雜志所獲的榮譽有：Caj-cd規范獲獎期刊、中國優秀期刊遴選數據庫、中國期刊全文數據庫（CJFD）等。
雜志主要發文方向有：先進封裝技術與設備、半導體制造工藝與設備、電子專用設備研究、專用設備維護與保養等。
雜志主要發文主題有哪些？
| 機構名稱 | 發文量 | 主要研究主題 |
| 中國電子科技集團公司... | 646 | 半導體；光刻；晶圓；電機；拋光 |
| 中國電子科技集團公司... | 229 | 真空；電池；低溫共燒陶瓷；太陽能... |
| 中國電子科技集團公司... | 168 | 電池；太陽能電池；太陽能；均勻性... |
| 中國電子科技集團公司... | 118 | 單晶；硅單晶；硅片；晶片；區熔 |
| 電子工業部 | 115 | 半導體；光刻；曝光機；切片；切片... |
| 北京中電科電子裝備有... | 92 | 晶圓；劃片；劃片機；鍵合；封裝 |
| 中華人民共和國工業和... | 75 | 光刻；電路；電子專用設備；集成電... |
| 中國電子科技集團公司 | 68 | 電路；集成電路；化學機械拋光；機... |
| 中國電子科技集團第十... | 66 | 光刻；刻蝕；激光；光刻機；投影光... |
| 中國科學院 | 54 | 光刻；光刻機；電路；半導體；電子... |
