《Recent Patents On Nanotechnology》雜志影響因子是2。
IF值(影響因子)趨勢圖
查詢期刊影響因子的方法有多種,以下是一些建議的途徑:
1、官方網(wǎng)站查詢:訪問Web of Science的官方網(wǎng)站,該網(wǎng)站提供了全面的期刊影響因子數(shù)據(jù)。
2、通過 SCI 或 SSCI 數(shù)據(jù)庫查詢:SCI或SSCI數(shù)據(jù)庫通常每年6月更新影響因子數(shù)據(jù),建議查詢最新年份的數(shù)據(jù)以獲取準確結(jié)果。
3、通過 JCR 數(shù)據(jù)庫查詢:JCR是科睿唯安發(fā)布的期刊評價報告,提供權(quán)威的影響因子排名。
《Recent Patents On Nanotechnology》雜志基本信息
出版商:Bentham Science Publishers B.V.
出版國家或地區(qū):U ARAB EMIRATES
ISSN:1872-2105,ESSN:2212-4020
出版語言:English
出版周期:3 issues/year
OA開放訪問:未開放
《Recent Patents On Nanotechnology》雜志排名與分區(qū)
JCR(Journal Citation Reports)分區(qū):Q3( 按JIF指標學科分區(qū)學科: MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY分區(qū):Q3NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY分區(qū):Q4PHYSICS, APPLIED分區(qū):Q3 ,按JCI指標學科分區(qū)學科: MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY分區(qū):Q4NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY分區(qū):Q4PHYSICS, APPLIED分區(qū):Q4 )
中科院分區(qū)大類學科:材料科學4區(qū),小類學科:材料科學:綜合 4區(qū)納米科技 4區(qū)物理:應(yīng)用 4區(qū)。
《Recent Patents On Nanotechnology》雜志文獻計量指標
CiteScore數(shù)值:4.7
SJR:0.364
SNIP:0.524
h-index:24
Gold OA文章占比:0.00%
平均審稿速度預(yù)計: 約3.0個月
中科院JCR分區(qū)趨勢圖
影響因子:6.3
影響因子:3.1
影響因子:38.6
影響因子:5.1
影響因子:14.3